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特徴：

メイン生産ライン：H2O超音波水槽1、界面活性剤槽2、H2O超音波水槽3、界面活性剤槽4、H2O超音波水槽5、HCL槽6、H2O超音波水槽7，計7つフローです。本設(shè)備電気コントロール部分の肝心な部品は上質(zhì)な輸入品を採用し、性能が良く、使用壽命が長い。裏面に吸気口を設(shè)置します?？諝輿A染を防止するため、ユーザーが排気パイプを外付けする必要があります。本設(shè)備はタッチパネル及びPLCコントロールの全自動コントロールシステムです。作業(yè)者は洗浄カセットをインローダに置いて、PLCがコントロールするロボットアームでカセットを各位置に搬送し、事前にインストールしたプログラムにてwaferの各プロセス処理を?qū)g施します。