對比兩種集成電路制造濕法工藝設(shè)備的優(yōu)缺點(diǎn)及未來發(fā)展趨勢，對影響單片濕法清洗工藝中蝕刻率因素進(jìn)行分析總結(jié)，介紹化學(xué)藥液混合和制程噴吐中流量控制技術(shù)的發(fā)展，設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)將兩種化學(xué)藥液流量控制閥件的蝕刻清洗...
一、引言上世紀(jì)50年代以后，隨著離子注入、擴(kuò)散、外延生長和光刻四種基本工藝的發(fā)明，半導(dǎo)體工藝逐漸發(fā)展起來。芯片被顆粒和金屬污染，容易導(dǎo)致短路或開路等失效，因此除了在整個(gè)生產(chǎn)過程中避免外部污染外，在制...
半導(dǎo)體設(shè)備是支撐電子行業(yè)發(fā)展的基石，也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游環(huán)節(jié)市場空間最廣闊，戰(zhàn)略價(jià)值最重要的一環(huán)。從整體來看，中國大陸的半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)，同全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)一樣，享受著本土晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)，地方規(guī)劃重點(diǎn)...
近日，我公司又完成了一批設(shè)備順利通過調(diào)試并出廠發(fā)至使用方，承蒙信賴，CGB也不負(fù)重托，我們從材料、工藝、制造、設(shè)備運(yùn)行全過程進(jìn)行嚴(yán)格把控，嚴(yán)把設(shè)備質(zhì)量關(guān)、嚴(yán)把出廠檢驗(yàn)關(guān)，確保設(shè)備的可靠性、穩(wěn)定性?？蛻?..
一、半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展概況半導(dǎo)體制造過程中不可避免會(huì)產(chǎn)生一些顆粒、有機(jī)物、自然氧化層、金屬雜質(zhì)等污染物，清洗機(jī)是指對晶圓表面進(jìn)行無損傷清洗以去除雜質(zhì)，獲得所需潔凈表面，為下一步工藝準(zhǔn)備良好條件...
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