國(guó)產(chǎn)EDA新突破 東方晶源推出計(jì)算光刻云方案
國(guó)產(chǎn)EDA新突破 東方晶源推出計(jì)算光刻云方案
東方晶源微電子科技（北京）有限公司（以下簡(jiǎn)稱“東方晶源”）發(fā)布首款基于云端的EDA計(jì)算光刻平臺(tái)——AeroHPO全流程協(xié)同優(yōu)化系統(tǒng)，成為國(guó)產(chǎn)EDA和一體化良率解決方案“云”部署先行者。該系統(tǒng)沿用東方晶源自主研發(fā)、全球率先工程應(yīng)用的“全芯片反向光刻掩模優(yōu)化（ILT）”技術(shù)，同時(shí)依托于公有云平臺(tái)，可為客戶提供28nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的制程建模、基于ILT的掩模優(yōu)化、設(shè)計(jì)規(guī)則與掩模規(guī)則檢查（DRC/MRC）、光源掩模聯(lián)合優(yōu)化（IRO）、嚴(yán)格物理光刻仿真、DPT 版圖拆分及光刻性能檢查（LRC）等全產(chǎn)品線功能與服務(wù)。AeroHPO是東方晶源現(xiàn)有基于私有計(jì)算集群的計(jì)算光刻解決方案的有力補(bǔ)充，該系統(tǒng)在易獲得性和靈活的收費(fèi)方式等方面具有顯著優(yōu)勢(shì)，可為高校和科研院所等提供便捷的EDA和計(jì)算光刻教學(xué)與科研平臺(tái)，同時(shí)也為中小型芯片設(shè)計(jì)與制造企業(yè)提供更為經(jīng)濟(jì)和靈活的解決方案。
東方晶源的AeroHPO全流程協(xié)同優(yōu)化系統(tǒng)，不僅解決了掩模優(yōu)化設(shè)計(jì)問(wèn)題，而且具有上游EDA工具以及下游缺陷分析和良率控制系統(tǒng)的可擴(kuò)展性和兼容性，提供了從芯片設(shè)計(jì)到制造一體化的DTCO綜合平臺(tái)。截至目前，該系統(tǒng)已經(jīng)在合作伙伴北京超級(jí)云、華為云和騰訊云等公有云上完成測(cè)試。AeroHPO的上線，將進(jìn)一步完善國(guó)產(chǎn)EDA解決方案，加速國(guó)產(chǎn)替代，并實(shí)現(xiàn)超越。
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