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新年芯聞|中電科二所取得碳化硅激光剝離設備國產化突破性進展;日本試制出SiC+GaN合體功率半導體

發(fā)布時間:2022-02-09發(fā)布人:

新年芯聞|中電科二所取得碳化硅激光剝離設備國產化突破性進展;日本試制出SiC+GaN合體功率半導體

原創(chuàng) 微安 碳化硅芯觀察 2022-02-07 12:16


【中電科二所取得碳化硅激光剝離設備國產化突破性進展】

激光垂直改質剝離設備被譽為“第三代半導體中的光刻機”。其創(chuàng)新性地利用光學非線性效應,使激光穿透晶體,在晶體內部發(fā)生一系列物理化學反應,最終實現(xiàn)晶片的剝離。這種激光剝離幾乎能避免常規(guī)的多線切割技術導致的材料損耗,從而在等量原料的情況下提升SiC襯底產量。此外,激光剝離技術還可應用于器件晶圓的減薄過程,實現(xiàn)被剝離晶片的二次利用。

據介紹,SiC半導體材料具有高熱導率、高擊穿場強、高飽和電子漂移速率、化學性能穩(wěn)定等優(yōu)點,對電動汽車、高壓輸變電、軌道交通、通訊基站、衛(wèi)星通訊、國防軍工等領域的發(fā)展有重要意義。但是,因SiC材料硬度與金剛石相近,現(xiàn)有的加工工藝切割速度慢、晶體與切割線損耗大,成本較高,導致材料價格高昂,限制了SiC半導體器件的廣泛應用。

幾年前,該項目作為第三代半導體技術創(chuàng)新的重點項目重點攻關,聚焦第三代半導體關鍵核心技術和重大應用方向,中電科二所以解決SiC襯底加工效率這一產業(yè)突出難題為目標,將SiC激光剝離設備列為重點研發(fā)裝備,借此實現(xiàn)激光剝離設備國產化,力爭使其具備第三代半導體核心裝備研發(fā)、產業(yè)化和整線裝備解決方案的能力。

近日中電科二所傳來好消息,在SiC激光剝離設備研制方面,取得了突破性進展。“目前,科研團隊已掌握激光剝離技術原理與工藝基礎,并利用自主搭建的實驗測試平臺,結合特殊光學設計、光束整形、多因素耦合剝離等核心技術,實現(xiàn)了小尺寸SiC(碳化硅)單晶片的激光剝離?!?/span>

該項目的正式啟動體現(xiàn)了中電科二所在SiC半導體材料、激光精密加工、光學系統(tǒng)設計搭建、半導體制造設備研制等方面的科研實力。

目前,這一研發(fā)項目已通過專家論證,正式立項啟動,下一步將依托國家第三代半導體技術創(chuàng)新中心,匯聚科研優(yōu)勢力量,聚焦激光剝離技術的實用化與工程化,積極推進工藝與設備的協(xié)同創(chuàng)新,研發(fā)快速生產化、全自動化、低能耗化的激光剝離設備。


【日本試制出碳化硅和氮化鎵合體的功率半導體】


近日,日本產業(yè)技術綜合研究所(簡稱產綜研)成功試制了把受到關注的新一代功率半導體材料碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)合為一體的半導體。要實現(xiàn)電子產品和純電動汽車(EV)的節(jié)能化,用于電力轉換的功率半導體是必不可少的。通過結合兩種特性不同的材料,兼顧較高的轉換效率和可靠性。


碳化硅和氮化鎵用于功率半導體的基板。與采用硅的通常的功率半導體相比,電力的轉換效率更高。碳化硅的可靠性更為卓越,應用于鐵路車輛和純電動汽車,而氮化鎵的運行效率高,應用于智能手機的快速充電器。例如,美國特斯拉的部分主力純電動汽車的逆變器上應用了碳化硅半導體。


產綜研在碳化硅基板上制造二極管和氮化鎵的晶體管,開發(fā)出了兼具兩方面優(yōu)點的半導體。在位于茨城縣筑波市的研究基地“TIA”,成功進行了采用直徑100毫米基板的功率半導體的試制和試運行。


該半導體支持的電流在試制階段約為20毫安,今后將為了實用化而開發(fā)支持10安培以上電流的功率半導體。未來力爭應用于小型純電動汽車搭載的逆變器、以及光伏太陽能發(fā)電設備的電源調節(jié)器(電力轉換裝置)。


圍繞新一代功率半導體,旨在引進氧化鎵和鉆石等其他新材料的研究開發(fā)也在推進。不過,這些材料的全面普及被認為需要較長時間。產綜研的先進功率電子研究中心功率器件團隊的研發(fā)負責人原田信介表示,“通過(現(xiàn)有的碳化硅和氮化鎵的)組合,能使技術無縫銜接”。

文章轉載自:太原網、日經媒體      

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