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半導(dǎo)體設(shè)備,光刻機(jī)一枝獨(dú)秀

發(fā)布時(shí)間:2022-11-17發(fā)布人:

半導(dǎo)體設(shè)備,光刻機(jī)一枝獨(dú)秀



到處肆虐的半導(dǎo)體寒風(fēng)在ASML的投資者日會(huì)議上戛然而止,接連上修的營(yíng)收展望、持續(xù)推進(jìn)的產(chǎn)能擴(kuò)大計(jì)劃、強(qiáng)勁的未來(lái)需求,就連摩根士丹利分析師Lee Simpson也在近日大喊加碼,ASML的周?chē)錆M(mǎn)了春天生機(jī)盎然的氣息,這與一眾在半導(dǎo)體寒冬中瑟瑟發(fā)抖的設(shè)備廠商相比,顯得尤為“格格不入”。



這家光刻機(jī)龍頭似乎總有一股魔力,哪怕在10月份,整體半導(dǎo)體設(shè)備廠商的股價(jià)都步入低谷之際,ASML依舊讓投資機(jī)構(gòu)給出了超凡的估值。Khaveen Investments在10月11日的報(bào)告中,給出了ASML 24.29x的企業(yè)估值數(shù)據(jù),而他們認(rèn)為半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)平均EV / EBITDA (EV/EBITDA 又稱(chēng)企業(yè)價(jià)值倍數(shù),是一種被廣泛使用的公司估值指標(biāo))僅為12.37 x,是 ASML的一半,其余KLA、Lam Research、應(yīng)用材料、Tokyo Electron (TEL)等幾家設(shè)備巨頭的估值甚至皆未達(dá)到均值。

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                                                                                                                            圖源:Khaveen Investments



自2018年后,光刻機(jī)的熱度就喧囂塵上,但在眾多半導(dǎo)體設(shè)備中,光刻機(jī)突出的,可遠(yuǎn)不止它的超高話(huà)題度…



一枝獨(dú)秀的光刻機(jī)廠商



雖然常有半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈“賣(mài)鏟人”之稱(chēng),但今年半導(dǎo)體設(shè)備廠商也并不好過(guò),此前《市值暴跌的半導(dǎo)體設(shè)備巨頭》一文指出,今年以來(lái),下滑的需求,腰斬的市值、消退的熱情、縮減的資本都讓半導(dǎo)體設(shè)備廠商處于水深火熱之中。即便近一個(gè)月設(shè)備廠商們的股價(jià)有所回升,但籠罩在他們未來(lái)展望上的陰霾卻并沒(méi)有消散。



TEL甚至4年來(lái)首度下砍財(cái)測(cè)。11月10日,TEL發(fā)布新聞稿稱(chēng),因總體經(jīng)濟(jì)放緩疑慮、地緣政治風(fēng)險(xiǎn),導(dǎo)致半導(dǎo)體廠商的設(shè)備投資出現(xiàn)暫緩/抑制傾向,造成營(yíng)收預(yù)估將遜于原先預(yù)期,因此今年度(2022年4月至2023年3月)合并營(yíng)收目標(biāo)自原先預(yù)估的2.35兆日?qǐng)A下砍2,500億日?qǐng)A至2.1兆日?qǐng)A,合并營(yíng)益目標(biāo)自7,160億日?qǐng)A下修1,700億日?qǐng)A至5,460億日?qǐng)A,合并純益目標(biāo)也自5,230億日?qǐng)A下修1,230億日?qǐng)A至4,000億日?qǐng)A。



除此之外,Lam Research此前估計(jì)明年損失20億至25億美元收入;KLA初估明年?duì)I收損失達(dá)9億美元;AMAT雖然還未公布季度財(cái)報(bào),但在過(guò)去幾個(gè)月,分析師一直看跌他們的盈利前景,九次向下修正盈利預(yù)測(cè),投資機(jī)構(gòu)Zacks預(yù)測(cè)每股盈利為 1.73 美元,表明收益同比下降約10%。



然而,在這“愁,愁,愁”的氛圍中,ASML和佳能兩家光刻機(jī)廠商卻展現(xiàn)出了前所未有的產(chǎn)業(yè)生機(jī)。



ASML:營(yíng)收預(yù)測(cè)“向上而生”


由于看好市場(chǎng)對(duì)先進(jìn)芯片生產(chǎn)設(shè)備的需求強(qiáng)勁,ASML于11月10日上調(diào)了2025年的營(yíng)收展望,預(yù)估到2025年時(shí)營(yíng)收將達(dá)300億-400億歐元(約309至412億美元),高于之前預(yù)估的240億-300億歐元,也優(yōu)于分析師平均預(yù)估的320億歐元。ASML還指出,未來(lái)十年的業(yè)績(jī)將持續(xù)增長(zhǎng),到2030年時(shí)的銷(xiāo)售目標(biāo)為440億-600億歐元,并持續(xù)提高產(chǎn)能。



按照ASML 2021年186億歐元的營(yíng)收估算,到了2025年ASML營(yíng)收增長(zhǎng)率為61.3%-115%,到2030年?duì)I收增長(zhǎng)率為136.6%-222.6%。雖然這個(gè)數(shù)據(jù)看起來(lái)很?chē)樔耍珜?duì)于ASML來(lái)說(shuō),可能只是屬于正常增長(zhǎng),因?yàn)檫^(guò)去十年,它就是這么成長(zhǎng)而來(lái)的。2012年,ASML營(yíng)收僅為47.32億歐元,到了2016年就已經(jīng)增長(zhǎng)至68.75億歐元,由此來(lái)看,2012-2021十年間,ASML營(yíng)收成長(zhǎng)率高達(dá)295.7%,而2016-2021五年間,成長(zhǎng)率則為169.6%。事實(shí)證明,現(xiàn)實(shí)數(shù)據(jù)只會(huì)更加驚人。


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                                                                                                                            圖源:《光刻機(jī)巨頭ASML的十年變遷》



想要實(shí)現(xiàn)這樣的營(yíng)收預(yù)期,產(chǎn)能的擴(kuò)充自然是必不可少的。一直以來(lái),ASML的光刻機(jī)都處于一個(gè)供不應(yīng)求的狀態(tài),產(chǎn)能越多,營(yíng)收才能更多,尤其那些適用于先進(jìn)制程的EUV、High NA EUV設(shè)備,雖然制作難度上升,但相對(duì)的價(jià)格也是水漲船高。從ASML擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃來(lái)看,到2025-2026年EUV年產(chǎn)能增加到 90 臺(tái),過(guò)去十年間,ASML EUV出貨量從2012年的1臺(tái),增長(zhǎng)到了2021年的42臺(tái),隨著產(chǎn)能的增加,未來(lái)五年/十年EUV的出貨量肯定也會(huì)取得顯著增長(zhǎng)。



到2027-2028年,ASML還計(jì)劃將 High-NA EUV 產(chǎn)能增加到 20 個(gè)系統(tǒng),據(jù)路透社此前報(bào)道,新一代High-NA EUV設(shè)備訂價(jià)約4億美元,上一代EUV光刻機(jī)售價(jià)大約1.2億美元,這就意味著High-NA EUV設(shè)備售價(jià)提升了兩倍多。今年年初ASML收到來(lái)自英特爾的最新款High-NA EUV「EXE:5200」首張訂單,英特爾預(yù)計(jì)到2025年該設(shè)備加入量產(chǎn),除英特爾外,目前臺(tái)積電、三星等一線(xiàn)晶圓廠也都已預(yù)購(gòu)了High-NA EUV 。



與EUV/High-NA EUV相比,DUV就便宜了很多,平均每臺(tái)售價(jià)約0.28億歐元,但這并不妨礙其成為此次擴(kuò)產(chǎn)的主力軍。ASML計(jì)劃到2025-2026年,DUV 系統(tǒng)的年產(chǎn)能增加到600個(gè),幾乎是2019-2021年ASML 3年的DUV出貨總量,數(shù)據(jù)顯示,2021年ASML共出貨了234臺(tái)DUV光刻機(jī),2020年共出貨193臺(tái),2019年共出貨169臺(tái),三年總計(jì)596臺(tái),可見(jiàn)此次ASML擴(kuò)產(chǎn)力度不可小覷。



佳能:產(chǎn)能翻番


在光刻機(jī)的擴(kuò)產(chǎn)方面,并不是只有ASML在行動(dòng),“落魄”的光刻機(jī)貴族佳能居然時(shí)隔21年宣布擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃。之所以說(shuō)“落魄”,想必大家都知道,佳能光刻機(jī)在上世紀(jì)也是一方霸主的存在,但在干濕路線(xiàn)之爭(zhēng)之后,佳能就有些趕不上ASML的步伐了,尤其在EUV設(shè)備領(lǐng)域,更是難以望其項(xiàng)背。



在過(guò)去相機(jī)是佳能的主營(yíng)業(yè)務(wù),但近些年全球數(shù)碼相機(jī)業(yè)務(wù)持續(xù)下滑,佳能也難免受到?jīng)_擊,而光刻機(jī)業(yè)務(wù)卻逐漸成為了增長(zhǎng)動(dòng)力,畢竟據(jù)華爾街日?qǐng)?bào)去年年底報(bào)道,1995年制造的二手光刻機(jī)佳能FPA3000i4,在2014年10月只值10萬(wàn)美元,今天則值170萬(wàn)美元,漲價(jià)17倍。二手的都這么搶手,一手的更不用多說(shuō)了。



目前,佳能主要在宇都宮事務(wù)所(宇都宮市)和阿見(jiàn)事務(wù)所(茨城縣阿見(jiàn)町)等2處日本工廠生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻設(shè)備,專(zhuān)注于i-line到KrF的低端光刻機(jī)系列。佳能財(cái)報(bào)顯示,未來(lái)隨著半導(dǎo)體設(shè)備投資的增加,佳能的光刻機(jī)業(yè)務(wù)還會(huì)持續(xù)增長(zhǎng)。



或許是覺(jué)得“與其讓黃牛賺這個(gè)錢(qián)還不如讓我自己賺”,又或許是受到地緣政治的影響,也有可能是力壓的NIL(納米壓印光刻)技術(shù)有了突破性進(jìn)展,總之,這個(gè)曾經(jīng)的光刻機(jī)龍頭時(shí)隔21年宣布擴(kuò)產(chǎn)。



據(jù)日經(jīng)新聞網(wǎng)10月初報(bào)道,佳能將在宇都宮事務(wù)所內(nèi)約7萬(wàn)平方米的空地上建設(shè)半導(dǎo)體光刻設(shè)備的新工廠,包括廠房建設(shè)費(fèi)用和生產(chǎn)設(shè)備在內(nèi)的總投資額預(yù)計(jì)達(dá)到540~560億日元左右,將于2023年內(nèi)開(kāi)工建設(shè),產(chǎn)能將提高至現(xiàn)在的2倍,力爭(zhēng)2025年春季投入運(yùn)行。


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                                                                                                                                          圖源:日經(jīng)中文網(wǎng)



值得注意的是,日經(jīng)新聞網(wǎng)還指出,新工廠還計(jì)劃開(kāi)發(fā)新一代設(shè)備,這新一代設(shè)備就是上述提到的NIL設(shè)備,NIL是一種復(fù)制納米尺度特征的有效技術(shù),2003年就被添加到ITRS路線(xiàn)圖中,作為NIL技術(shù)的擁護(hù)者,佳能早在2004年就開(kāi)始這項(xiàng)技術(shù)的研發(fā),目前已經(jīng)在存儲(chǔ)領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展(和佳能共同開(kāi)發(fā)的NIL技術(shù)的鎧俠已掌握NIL 15nm的制程量產(chǎn)技術(shù),目前正在進(jìn)行15nm以下技術(shù)研發(fā),預(yù)計(jì)2025年進(jìn)一步達(dá)成)。據(jù)悉,為了實(shí)現(xiàn)NIL系統(tǒng)的快速升級(jí),佳能還應(yīng)用機(jī)器學(xué)習(xí)和AI技術(shù)進(jìn)一步提高系統(tǒng)性能,提高生產(chǎn)力,并實(shí)現(xiàn)更自主的控制?;蛟S,佳能NIL設(shè)備的量產(chǎn)已經(jīng)指日可待了。



不得不承認(rèn),近期內(nèi)佳能在光刻機(jī)領(lǐng)域的布局并不少,今年4月初,日經(jīng)新聞還報(bào)道稱(chēng),佳能正在開(kāi)發(fā)用于半導(dǎo)體3D技術(shù)的光刻機(jī),新產(chǎn)品通過(guò)在原基礎(chǔ)上改進(jìn)透鏡和鏡臺(tái)等光學(xué)零部件,來(lái)提高曝光精度,曝光面積達(dá)到原產(chǎn)品的4倍。為了增加布線(xiàn)密度,新產(chǎn)品還提高了分辨率,支持1微米的線(xiàn)寬。不過(guò),該新產(chǎn)品最早于2023年上半年上市,從時(shí)間來(lái)看,或許還是在原有廠房?jī)?nèi)制造。



產(chǎn)能方面,佳能預(yù)測(cè)2022年半導(dǎo)體光刻設(shè)備的銷(xiāo)量比上年增長(zhǎng)29%,增至180臺(tái),最近10年內(nèi)激增至4倍,建設(shè)新工廠后,2個(gè)基地的總產(chǎn)能將增至約2倍。產(chǎn)能和研發(fā)兩手抓的佳能,能否在未來(lái)擴(kuò)大自己光刻機(jī)的市占率,我們也拭目以待。



尼康雖然暫未傳出擴(kuò)產(chǎn)消息,但據(jù)日經(jīng)新聞8月報(bào)道,尼康預(yù)計(jì)2025財(cái)年(截至2026年3月)將把半導(dǎo)體光刻機(jī)主力機(jī)型的年銷(xiāo)量增至截至2021財(cái)年(截至2022年3月)3年平均銷(xiāo)量的2倍以上,以2023年上市的支持3D半導(dǎo)體的新產(chǎn)品為中心,開(kāi)拓英特爾以外的日本、中國(guó)大陸、臺(tái)灣客戶(hù)。雖然并非是尖端的光刻機(jī),但尼康認(rèn)為通過(guò)支持3D實(shí)現(xiàn)附加價(jià)值,可以提高在行業(yè)里的影響力。



光刻機(jī)為何如此“耐打”



同為半導(dǎo)體制造不可或缺的設(shè)備,為什么光刻機(jī)就如此“耐打”?筆者分析,主要有以下三大原因:



原因一:先進(jìn)制程設(shè)備的訂單比產(chǎn)能擴(kuò)張計(jì)劃更具黏性。



光刻技術(shù)是芯片制造工藝中最關(guān)鍵的一步,芯片技術(shù)之所以能在過(guò)去60年間,一步步從百微米發(fā)展到如今的3nm,光刻機(jī)功不可沒(méi),沒(méi)有光刻機(jī),摩爾定律或許無(wú)法延伸到現(xiàn)在。在芯片制造過(guò)程中,光刻機(jī)身處最前道,只有通過(guò)光刻機(jī)把掩膜版上的電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓表面的抗蝕劑膜上,才能進(jìn)行后續(xù)的化學(xué)顯影、定影、清洗和檢測(cè)等工序,沒(méi)有光刻機(jī),再優(yōu)秀的芯片設(shè)計(jì)也只會(huì)是“鏡中花,水中月”,無(wú)法轉(zhuǎn)換成對(duì)我們有用的芯片。



而對(duì)于臺(tái)積電、三星、英特爾等一線(xiàn)晶圓代工廠來(lái)說(shuō),想要搶在競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手前面率先取得先進(jìn)制程的突破,繞不開(kāi)光刻機(jī),畢竟“巧婦難為無(wú)米之炊”,沒(méi)有先進(jìn)的光刻機(jī)就不可能制造出采用先進(jìn)制程工藝的芯片,所以大廠們才會(huì)在去年年底就開(kāi)始爭(zhēng)先下單ASML High-NA EUV。High-NA EUV作為進(jìn)入到未來(lái)2nm,甚至是“埃米時(shí)代”的入場(chǎng)券,只有擁有了它,玩家才有資格參與到下一輪的先進(jìn)制程斗爭(zhēng)中。



這也是開(kāi)頭Lee Simpson在低迷市場(chǎng)情勢(shì)下大喊加碼ASML的原因所在,Lee Simpson認(rèn)為,ASML比大多數(shù)同行有更好的條件挺過(guò)去,因?yàn)橄冗M(jìn)工具的訂單往往比產(chǎn)能擴(kuò)張計(jì)劃更具黏性。他指出,盡管ASML知道更廣泛芯片業(yè)的需求有些疲軟,但它可以證明自己深具韌性,此前大量積壓的訂單可以支撐到2023年,屆時(shí)供應(yīng)鏈條件改善可提高毛利率,而且ASML的EUV具有戰(zhàn)略性質(zhì)。



原因二:存儲(chǔ)業(yè)務(wù)占比相對(duì)較少,晶圓代工需求旺盛。



近期設(shè)備廠商之所以步履薄冰,最大關(guān)鍵點(diǎn)就是受到短期內(nèi)個(gè)人計(jì)算機(jī)和智能手機(jī)需求放緩影響,臺(tái)積電、SK海力士、美光、英特爾等芯片廠商都在放緩資本支出。這其中,以存儲(chǔ)廠商資本支出縮減最為嚴(yán)重,存儲(chǔ)芯片是一個(gè)市場(chǎng)周期波動(dòng)性比較大的行業(yè),面對(duì)當(dāng)前不景氣的終端市場(chǎng),包括SK海力士、美光、鎧俠、南亞科在內(nèi)眾多存儲(chǔ)廠商大幅縮減資本支出,動(dòng)蕩的下游市場(chǎng)自然對(duì)設(shè)備廠商產(chǎn)生了極大的影響,因?yàn)樵趶S商的資本縮減中,設(shè)備投資減少首當(dāng)其中。



Khaveen Investments數(shù)據(jù)顯示,存儲(chǔ)業(yè)務(wù)是Lam Research最大的業(yè)務(wù),61%的營(yíng)收來(lái)自于此;TEL的存儲(chǔ)收入占了51.3%,TEL日前下修財(cái)測(cè)的原因中就包括了內(nèi)存廠商變更或延后設(shè)備投資;AMAT的存儲(chǔ)收入則占了40%;相比下ASML 29.8%的存儲(chǔ)收入占比遠(yuǎn)低于其他幾家設(shè)備廠商,因此其受到的資本縮減影響也相對(duì)較少。

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                                                                                                                                 圖源:Khaveen Investments



另一方面,雖然晶圓代工廠的資本支出也所有縮減,但從長(zhǎng)期來(lái)看,芯片制造競(jìng)爭(zhēng)加劇,美歐日韓中等多地區(qū)都在努力扶植本土的芯片生產(chǎn),將促成芯片產(chǎn)業(yè)所需產(chǎn)能的提高。Khaveen Investments根據(jù)各大廠商透露的消息,預(yù)計(jì)存儲(chǔ)芯片制造商的資本支出將在2023年下降,而邏輯芯片制造商的資本支出將在2023年回升。



TrendForce也指出,2022 年晶圓代工產(chǎn)值成長(zhǎng)來(lái)自市場(chǎng)需求,市場(chǎng)疲弱造成庫(kù)存調(diào)整,沖擊 2023 年產(chǎn)值僅成長(zhǎng) 2.7%。即便如此,2023 年晶圓代工產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值仍會(huì)持續(xù)成長(zhǎng),因臺(tái)積電預(yù)計(jì)市占逼近六成,加上強(qiáng)勢(shì)漲價(jià)與高單價(jià) 3 nm制程晶圓挹注,使臺(tái)積電有高個(gè)位數(shù)成長(zhǎng),帶動(dòng) 2023 年晶圓代工產(chǎn)值成長(zhǎng)。這無(wú)疑又給邏輯芯片占據(jù)大頭的光刻機(jī)廠商增添了底氣。



原因三:歐日廠商主導(dǎo)光刻機(jī)市場(chǎng),受美國(guó)禁令影響比純美系廠商小。



目前,全球三大光刻機(jī)廠商分別是ASML、佳能和尼康,其中ASML屬于歐洲廠商,佳能和尼康則均為日本廠商,這點(diǎn)從彭博社此前統(tǒng)計(jì)的芯片設(shè)備制造商命運(yùn)因地點(diǎn)而異的圖表就可以體現(xiàn)出。

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                                                                                                                                                圖源:彭博社



據(jù)彭博社報(bào)道,分析師預(yù)計(jì)Lam Research、KAL、AMAT這三家美國(guó)公司的明年收入下降幅度將超過(guò)日本同行。Lam Research 已經(jīng)預(yù)計(jì)2023年在華收入減少20億-25億美元,KAL也初估受美禁令影響明年?duì)I收損失達(dá)9億美元,雖然日本的TEL營(yíng)收也受到了影響,但相比上述三家,影響較少。



從ASML財(cái)報(bào)來(lái)看,中國(guó)大陸在2021年的時(shí)候就不是ASML的最大銷(xiāo)售市場(chǎng),銷(xiāo)售額僅為 16%。據(jù)路透社報(bào)道,ASML首席執(zhí)行官 Peter Wennink 上周五對(duì)投資者表示,如果中國(guó)芯片制造商無(wú)法將產(chǎn)能擴(kuò)大到當(dāng)前水平以上,ASML也不會(huì)改變其 2030 年的營(yíng)收預(yù)測(cè)。Wennink表示:“雖然我不愿意看到,但如果地緣政治形勢(shì)是這樣,如果中國(guó)被排除在任何增長(zhǎng)之外,但芯片需求還是在那里,晶圓廠將會(huì)建在其他地方。雖然這可能會(huì)存在短暫的問(wèn)題,但最終我們?nèi)孕枰圃爝@些芯片?!?/p>



而從某種意義上說(shuō),ASML在中國(guó)市場(chǎng)上空出的份額,有一定幾率由佳能和尼康來(lái)填補(bǔ),畢竟目前來(lái)看,這兩家廠商的光刻機(jī)主要屬于中低端系列,受到美國(guó)禁令影響更小。



寫(xiě)在最后



大家都知道半導(dǎo)體行業(yè)是周期性的,雖然現(xiàn)在行業(yè)整體都處于下行周期,但總有一天會(huì)迎來(lái)轉(zhuǎn)折點(diǎn),迎來(lái)新契機(jī)。不過(guò),那都是未來(lái)的事情了,沒(méi)有當(dāng)下,何談未來(lái)?



因此,現(xiàn)下我們需要考慮的就是如何度過(guò)低迷時(shí)期,總結(jié)光刻機(jī)之所以“耐打”,就是因?yàn)樗銐驈?qiáng)。技術(shù)夠強(qiáng),所以能在半導(dǎo)體制造中有著舉足輕重的地位;ASML也因?yàn)閴驈?qiáng),所以客戶(hù)更具黏性。當(dāng)然,本土廠商除了勤修內(nèi)功,努力變強(qiáng)外,還需要多元化布局,即便是存儲(chǔ)、邏輯雙重布局的設(shè)備巨頭都因比重問(wèn)題受到了不小的影響,更不用說(shuō)單一性布局的其他廠商了,在特殊時(shí)期,受到的影響只會(huì)更大。




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