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全自動單片化學(xué)清洗機主要應(yīng)用于晶圓制造、MEMS制造、LED、功率器件制造等領(lǐng)域，可實現(xiàn)CMP后清洗、沉積前清洗、刻蝕后清洗、標(biāo)準(zhǔn)RCA清洗等多道清洗工藝。

設(shè)備主要由上下料臺模塊、對中翻轉(zhuǎn)模塊、工藝腔體、升降掃描擺臂模塊、雙臂機械手模塊、供排液系統(tǒng)、空氣凈化及靜電消除系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、中央控制系統(tǒng)等組成。工藝腔體可配置藥液清洗、Brush刷洗、二流體清洗、兆聲清洗、氮氣吹掃、IPA干燥、離心甩干等功能。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

1. 兼容多種規(guī)格尺寸的晶圓

2. 采用干進干出加工模式

3. 支持?jǐn)U展SMIF/EFEM等自動傳輸

4. 最高可配置8腔體，產(chǎn)能可達200片/小時

5. 可配比SC1/SC2/ SPM/DHF/IPA等多種藥液，支持濃度檢測

6. 支持多種藥液分層排放