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產(chǎn)品中心

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槽式濕法制程設備

全自動GaN去光阻清洗機

全自動GaN去光阻清洗機是一種專業(yè)的清洗設備,?主要用于去除GaN(?氮化鎵)?等半導體材料表面的光阻層。? 全自動GaN去光阻清洗機通過集成多個清洗槽體和工序,?實現(xiàn)了對GaN晶片的高效、?精準清洗。?它基于先進的清洗技術和自動化控制系統(tǒng),?能夠確保清洗過程的穩(wěn)定性和可靠性。全自動GaN去光阻清洗機廣泛應用于半導體材料生產(chǎn)領域,?特別是針對GaN等新型半導體材料的清洗需求。?它能夠有效去除晶片表面的光阻層和其他污垢,?為后續(xù)的半導體制造工藝提供高質(zhì)量的晶片表面。


產(chǎn)品詳情

1. 工作原理

全自動GAN去光阻清洗機的工作原理主要利用激光吸附、?瞬時膨脹和易離化,?以及沖擊清理的過程進行表面清洗。??其工作原理通常包含以下三個主要過程:?

1) 激光吸附:?將激光束照射到工件表面時,?激光能量被工件表面的有機和無機雜質(zhì)吸收。?這些雜質(zhì)吸收的激光能量將其加熱至瞬態(tài)高溫狀態(tài),?部分燃燒成為氣態(tài),?形成氣體等離子體區(qū)域,?從而利用這一現(xiàn)象將工件表面的雜質(zhì)清除。?

2) 瞬時膨脹和易離化:?當表面雜質(zhì)被加熱時,?它們以非常快的速度從表面膨脹開來。?這個過程稱為瞬時膨脹和易離化。?在加熱和膨脹后,?雜質(zhì)在空氣中形成一個氣囊環(huán),?達到其容量的兩倍以上,?同時變得容易剝離。?

3) 沖擊清理:?利用氣囊環(huán),?激光清洗機使用高壓氣體噴嘴來打破氣囊區(qū)域,?將雜質(zhì)從表面沖走。?這種方法使用高能激光深入雜質(zhì)表面,?同時對工件表面造成的破壞非常小。?

2. 工作流程

生產(chǎn)主線為:上料臺、超聲循環(huán)溢流槽1、循環(huán)溢流槽2、循環(huán)溢流槽3、QDR槽4、QDR槽5、下料臺,共5個制程工位。本設備電器控制部分關鍵件均采用進口優(yōu)質(zhì)件,性能可靠,使用壽命長;及背部設有吸風口,為防止污染空氣,用戶需外接風管抽風。本機臺是一個人機界面(觸摸屏)加PLC控制的自動控制系統(tǒng),操作者只須將清洗花籃放置于上料工位上,再由PLC控制機械手將花籃輸送到各個工位,按照事先輸入的程序?qū)M行各個工位進行相應的處理。

3. 清潔能力

4 inch   2 cassette / Batch  25 Pcs/cassette;6 inch     1 cassette / Batch  25   Pcs/cassette;

4. 產(chǎn)品優(yōu)勢

1) 高效性:?全自動GaN去光阻清洗機采用多槽體、?多工序設計,?能夠一次性完成多個清洗步驟,?大大提高了清洗效率。?

2) 環(huán)保性:?采用非接觸式清洗方式,?減少了對GaN晶片的磨損和損傷,?同時減少了水資源的浪費和污水排放。?設備還設有循環(huán)過濾和回收系統(tǒng),?保證了清洗溶液的清潔度,?降低了生產(chǎn)成本。?

3) 穩(wěn)定性:?設備采用PLC工控機程序控制,?全自動輸送方式,?運行平穩(wěn)快捷。?同時,?設備具有自我診斷功能,?能夠在出現(xiàn)故障時自動停機并報警,?確保了生產(chǎn)安全。?

4) 靈活性:?各槽清洗時間可以根據(jù)需要進行設定和調(diào)整,?以適應不同的清洗需求。?

5) 高精度:?對于GaN晶片的清洗,?全自動GaN去光阻清洗機能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的清洗效果,?確保晶片表面的光阻層被徹底去除。?

5. 產(chǎn)品特點

1) 工藝說明: 自動傳動,自動方式實現(xiàn)槽體間傳送工件,手臂按照菜單選擇流程作業(yè),生產(chǎn)部人員選取菜單進行作業(yè),這個過程全自動進行;

2) 全程自動化控制,工藝  過程中沒有人工干預,保證產(chǎn)品性能的一致性;

3) 搬運機械手的橫向移動和縱向提升均采用日本伺服馬達,閉環(huán)控制,定位精度≤1mm,可靠性高;采用雙導軌結構及線性模塊傳動,幾何曲線加減速運動,沖擊小、運動平穩(wěn);

4) 搬運機械手臂單獨急停、暫停開關、系統(tǒng)急停開關和機械手馬達電機自動過載保護等多重保護,確保操作者的安全;

5) 搬運機械手運行平穩(wěn),帶有過載和過流保護,工藝槽發(fā)生異常報警需將工藝槽產(chǎn)品放置到溢流槽保護并立即啟動報警(手臂故障需要立即發(fā)出報警并不可消除);當工裝出現(xiàn)意外情況時程序自動將藥液排空注入DIW稀釋救貨;

6) 工藝槽設有花籃物理檢測裝置,防止壓籃;

7) 溢流工藝的應用,保證了藥液槽之間的隔離效果和清洗的高潔凈度;

8) 優(yōu)化配管設置,節(jié)約DIW消耗量;

9) 工藝柔性化設計,工藝更改方便迅速;多工藝數(shù)據(jù)庫,可供用戶使用和存儲;

10) 整機在使用、運行過程中平穩(wěn)、可靠、不產(chǎn)塵、無溢出油污等,需潤滑的零件必須密封處理;

11) 整機采用PLC控制,觸摸屏顯示,清洗槽定溫控制,過溫保護及超(兆)聲低液位保護;

12) 整機采用全封閉設計。設備運行峰值噪音小且操作、維護和維修方便;

13) 整機耐酸堿溶液及揮發(fā)氣體的腐蝕,電器元件正常安全使用;

14) 機臺設有緊急停止回路(EMO急停按鈕,設備兩端各一個),并按照標準設置接地保護斷路器;

15) 整機前后區(qū)隔離,底板傾斜設計,便于排液,處設有漏液報警,前后區(qū)域均設水槍,確保漏液及時沖洗;

16) 清洗槽體及管路配有明顯標識或防錯設計,防止溶劑混用;

17) 設計合理化的排風管路,使酸堿液揮發(fā)氣體的污染最小化;

18) 設備內(nèi)部輸水、輸氣管道管線布置于主體設備內(nèi)部;

19) 廢水按照高氟、低氟、酸堿、酸堿含醇四類排放;

20) 設備內(nèi)廢氣總管路可用維護區(qū)水槍清洗,清洗廢液流入酸堿廢液總管;

21) 工藝溢流槽體都需具有外槽獨立溢流方式,需采用四面溢流;如果無法實現(xiàn),至少需要三面溢流;

22) 搬運機械手抓驅(qū)動部分為電機馬達驅(qū)動完成動作并配有傳感器實時監(jiān)測,抓取部位設有防壓框傳感器,檢測抓取成功與否;

23) 搬運機械手臂設有防夾防撞預警裝置(光電傳感器、機械傳感器、機械裝置等),以保護操作人員安全;

24) 工藝槽工作區(qū)域與機臺控制外配有安全監(jiān)測裝置,防止搬運機械手對操作人員的意外損傷;

25)   設備后方、左右兩側需留有方便維護、維修的窗口;

26)  機臺上料下料區(qū)各配水***2把;

27) 機臺排風口處安裝排風壓力監(jiān)測裝置(帶信號報警裝置);

28) 機臺總進口處(N2或CDA)安裝有壓力監(jiān)測裝置(帶信號報警裝置);

29) 工藝槽槽底傾斜式,便于排空;

30) 根據(jù)工藝要求選擇配套UPS電源(15-20min);

31)  排風調(diào)節(jié)板根據(jù)風壓可自動調(diào)節(jié);

6. 安裝及售后

1) 委派具有豐富的調(diào)試經(jīng)驗、業(yè)務精湛的技術人員在用戶工廠現(xiàn)場安裝、調(diào)試設備。

2) 為用戶工廠操作工提供培訓,培訓包括正常操作、維修保養(yǎng)、操作問題的分析和緊急處理程序。

3) 無償提供為期一年的技術支持與服務,一年后繼續(xù)提供終身技術服務。在質(zhì)保期內(nèi),提供7*24小時內(nèi)電話支持服務,24小時到現(xiàn)場反應時間。保修期外保證在接到客戶請求維修服務后24小時內(nèi)到達現(xiàn)場。

4) 可提供隨機備件、易損品及隨機工具。